Цифровой капитализм
Экономика, технологии, футурология Дочерний проект канала @akademia_space Обратная связь через бота @akademia_space_bot или по электронной почте [email protected]
Show more- Subscribers
- Post coverage
- ER - engagement ratio
Data loading in progress...
Data loading in progress...
FT: Глобализация внесла важный вклад в низкую и стабильную инфляцию за последние пару десятилетий. Открытость торговли помогла переместить производство в наиболее экономически эффективные места. Она также сделала предложение экономики гибким. Это помогло компенсировать инфляционные последствия локальных шоков спроса. Но геополитические риски сделали глобальные цепочки поставок значительно менее устойчивыми. Текущее и перспективное повышение тарифов между ЕС, США и Китаем может еще больше усугубить эту тенденцию. Поэтому глобальные цепочки поставок вряд ли будут сдерживать инфляционное давление так, как это было в прошлом. На горизонте есть несколько рисков инфляции. Странам необходимо будет увеличить инвестиции для борьбы с изменением климата. Более высокие военные расходы, особенно в европейских странах, также потребляют значительное количество ресурсов. Государственные расходы расширят сторону предложения экономики и будут способствовать долгосрочной дезинфляции, но краткосрочная нагрузка на ограниченные ресурсы…
🇨🇳 Производственное оборудование. Литографы. Иммерсионные. Китай В Китае добились прорыва в области DUV-литографов? Из документов Министерства промышленности и информационных технологий Китая (MIIT) можно сделать предположение, что в Китае осуществлен крупный технологический прорыв: разработана машина для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV ArF), способная производить чипы по техпроцессам 8нм или лучше. В настоящее время эту машину представляют производителям в Китае. В опубликованном MIIT 9 сентября 2024 года «Руководящем каталоге по продвижению и применению основного технического оборудования», среди оборудования для производства интегральных схем упоминается «литографическая машина ArF» с такими параметрами: диаметр пластины – 300 мм, длина волны источника – 248 нм, разрешение менее 65нм, точность наложения – менее 8нм. Из этого можно сделать вывод, что разработка в Китае отечественного литографа DUV ArF в основном завершена. Ключевыми участниками процесса были Advanced Micro-Fabrication Equipment…
Your current plan allows analytics for only 5 channels. To get more, please choose a different plan.